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光刻科技股吧(微芯科技 500人民币光刻)

wx头像 wx 2023-10-14 11:12:17 6
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【CNMO新闻】在半导体制作工艺中,光刻工序是非常重要的工序,现在,荷兰ASML的光刻设备在市场上占压倒性优势。CNMO了解到,据日本特许厅(专利厅)4月发布的请求意向查询“半导体光刻的前后处理技能”,不难发现日本在光刻设备上有着必定的优势,半导体制作设备在世界上也保持着较高存在感。各个技能领域的请求数量(图源日经中文网 全文同)

半导体制作的前工序中,中心是光刻工序,根据以光刻设备烧制的电路图切削基板、进行布线,完结半导体芯片制作。查询数据显现,半导体光刻的前后处理技能领域的请求最多,光刻胶的剥离、光刻胶周边部分的铲除技能数量超16万项。2006年-2018年请求者所属国家和区域的改变

从2006年-2018年请求的专利来看,每年都是日本国籍的请求者占4成左右,数量最多。从累计数据来看,2006年-2018年请求的专利请求总数为4万2646项请求,其间日本国籍的请求者请求了1万8531项,占总数的435%,远超7000多项的韩国和美国。半导体光刻的前后处理技能在首要国家和区域的专利请求状况

从区域看,2009年-2011年在日本进行的请求最多,随后呈下降趋势。2012年在美国进行的请求超越日本,之后美国继续登顶。从2006年-2018年累计数据来看,美国的请求为1万678项,占全体的250%,其间321%来自日本的请求者。值得注意的是,在中国大陆的请求数量为6010项,其间大陆的请求者只要221%,未来,我国在这方面的技能还需加强。

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