据媒体报道,全球一号代工厂台积电宣告了有关极紫外光刻(EUV)技能的两项重磅打破,一是初次运用7nm EUV工艺完结了客户芯片的流片作业,二是5nm工艺将在2019年4月开端试产。据台积电泄漏,7nm EVU比较于7nm DUV晶体管密度提高20%,平等频率下功耗可下降6-12%...
据媒体报道,全球一号代工厂台积电宣告了有关极紫外光刻(EUV)技能的两项重磅打破,一是初次运用7nm EUV工艺完结了客户芯片的流片作业,二是5nm工艺将在2019年4月开端试产。据台积电泄漏,7nm EVU比较于7nm DUV晶体管密度提高20%,平等频率下功耗可下降6-12%。在7nm EUV工艺上成功完结流片,证明了新工艺新技能的牢靠和成熟,为后续量产打下了坚实基础。
EUV是下一代光刻干流技能,可在大规模制作半导体时可以有用削减越来越高的本钱和工艺杂乱程度,EUV被业界认为是破除摩尔定律遇到阻止的中心设备。业界估计2018年下半年到2019年,半导体厂商将会活跃导入EUV设备,行业龙头ASML估计2018年EUV设备出售增加30%到达25台。真空设备是EUV光刻技能的必选项,EUV设备的放量将推进真空设备及清洗工艺等需求的显着增加,产业链相关公司望获益。
相关上市公司:
汉钟精机:公司是国内真空设备龙头公司。
至纯科技:公司半导体清洗设备工艺业界抢先。