得悉,中金公司发布研究报告称,光刻胶是现代微纳制作工艺的要害资料,广泛使用于集成电路、面板、PCB、LED等制作范畴。光刻胶技能难度大、壁垒高,商场长时间由少量日美厂商主导。近年来,跟着商场、资金、人才、方针等多方面要素驱动,国内IC光刻胶及原资料厂商日益增多,中金公司以为,国产高端IC光刻胶打破在望。
中金公司首要观念如下:
光刻胶为半导体制作中的要害耗材,组成技能难度大、壁垒高。光刻工艺为半导体制作中的中心工艺,光刻胶为光刻工艺的要害耗材,决议芯片制作的要害尺度。依据光源波长分类,光刻胶可分为紫外宽谱、g线、i线、KrF、ArF、EUV 6大品类,波长越短通常可制作的最小尺度越小,技能难度越高。光刻胶的壁垒首要在于:1)配方和经历的长时间堆集,2)原资料的安稳供应;3)客户黏性和认证周期长;4)前期资金和人才投入大。
全球光刻胶商场规模大,IC光刻胶中EUV和KrF增速高。依据Research And Markets数据,2020年全球光刻胶商场为87亿美元。依据Techcet数据,2020年全球IC光刻胶商场约18.33亿美元,估计2025年达24.66亿美元,5年CAGR为6.11%;获益于先进逻辑制程(<7nm)及DRAM(1α nm)的使用,EUV光刻胶商场规模有望由2020年的0.27亿美元迅速增长至2025年的2.26亿美元;跟着堆叠层数的提高,KrF光刻胶在3D NAND制程中的使用量同步添加,商场规模有望由2020年的6.12亿美元提高至2025年的9.1亿美元。
日美企业主导光刻胶商场,国内投入日益加大,有望改动中心原资料和高端IC光刻胶的全球格式。据Research And Markets的数据,2020年全球前五大光刻胶供货商占有全球87%的商场份额,职业集中度高。国内光刻胶工业开展不均衡,现状是厂商多而不强。光刻胶方面,国内供货商首要集中于PCB/面板/LED范畴和g/i线等中低端商场;光刻胶原资料方面,本钱占比高的树脂和光引发剂等对海外厂商依赖度高。跟着国内半导体工业快速开展以及对国产中心半导体资料的注重,国内部分公司在KrF、ArF等高端IC光刻胶范畴不断打破,咱们以为,将来有望改动全球光刻胶工业供应格式。