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光刻胶概念大涨！四部门发文强力推广发增强债券基金动 这些领域

wx头像 wx 2022-06-29 08:45:51 6
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9月23日午后，光刻胶概念直线拉升，到收盘，光刻胶指数上涨3.48%，飞凯资料涨7.73%、广信资料涨6.17%、容大感光涨4.22%，南大光电、晶瑞股份、雅克科技、上海新阳等多个公司也有不同程度跟涨。

光刻胶概念大涨！四部门发文强力推广发增强债券基金动 这些领域

光刻胶是微细图形线路加工制作的关键性资料，被誉为半导体资料“皇冠上的明珠”。

9月23日音讯，国家开展变革委等四部分联合印发《关于扩展战略性新兴工业出资强大新增加点增加极的辅导定见》提出，加速在光刻胶、高纯靶材、高温合金、高功能纤维资料、高强高导耐热资料、耐腐蚀资料、大尺度硅片、电子封装资料等范畴完结打破，以保证大飞机、微电子制作、深海采矿等要点范畴工业链供应链安稳。

半导体资料“皇冠上的明珠”

光刻胶商场并不大，但却对工业链有着重要意义。

依据前瞻工业研究院数据，2018年全球光刻胶商场规模约87亿美元，2010年至今，年均复合增加率约5.4%，估计未来3年仍以年均5%的速度增加，2022年全球光刻胶商场规模将超越100亿美元。

光刻胶是微细图形线路加工制作的关键性资料，是精密化工行业技能壁垒最高的资料，在PCB、LCD和半导体范畴具有重要作用。

依据我国工业信息和开源证券研究所数据，我国光刻胶出产仍以PCB用光刻胶为主，半导体用光刻胶占比仅2%。

在半导体范畴，光刻工艺是芯片制作最中心的工艺，本钱约为整个芯片制作工艺的30%，耗时约占整个芯片工艺40%-50%。因而，光刻胶的质量和功能是影响芯片功能、成品率及可靠性的关键因素之一。

据介绍，在半导体光刻进程中，光刻胶被均匀涂覆在硅片上，经紫外线曝光后，光刻胶的化学性质将发生变化；然后经过显影，被曝光的光刻胶将被去除，然后完结将电路图形由掩膜版转移到光刻胶上；再经过刻蚀进程，完结电路图由光刻胶转移到硅片上。

一般情况下，一个芯片在制作进程中需求进行10-50道光刻进程，因为基板、分辨率要求、蚀刻方法等不同，不同的光刻进程对光刻胶具体要求也不一样，即便相似的光刻进程，不同的厂商也会有不同的要求，所以，光刻胶制作商的中心技能在于其满意客户差异化需求的配方技能。

因为光刻胶产品的技能要求较高，我国光刻胶商场根本由外资企业占有，高分辨率的KrF和ArF光刻胶中心技能根本被日本和美国企业所独占，包含陶氏化学、JSR株式会社、信越化学、东京应化工业、富士电子资料，以及韩国东进等企业。据我国工业信息数据，全球前五大光刻胶厂商占有了全球商场87%的比例。

多公司延伸布局

据开源证券，从我国光刻胶商场来看，现在干流的四种半导体光刻胶中，g线/i线光刻胶现已完结量产。KrF光刻胶正逐渐经过芯片厂认证并开端小批量出产。ArF光刻胶达观估计在2020年能有用打破并完结认证，最先进的EUV光刻胶正处于先期研制阶段。

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